અતિ ઉચ્ચ શુદ્ધતા એલ્યુમિનિયમ સ્પુટરિંગ લક્ષ્યોની લાક્ષણિકતાઓ

તાજેતરના વર્ષોમાં, ઇન્ટિગ્રેટેડ સર્કિટ (IC) ટેક્નોલોજીની પ્રગતિ સાથે, ઇન્ટિગ્રેટેડ સર્કિટના સંબંધિત એપ્લિકેશન્સ ઝડપથી વિકસિત થયા છે.ઇન્ટિગ્રેટેડ સર્કિટ મેટલ ઇન્ટરકનેક્ટ્સના ઉત્પાદનમાં સહાયક સામગ્રી તરીકે અલ્ટ્રા હાઇ પ્યુરિટી એલ્યુમિનિયમ એલોય સ્પટરિંગ ટાર્ગેટ, તાજેતરના સ્થાનિક સંશોધનમાં એક ચર્ચાનો વિષય બન્યો છે.RSM ના સંપાદક અમને ઉચ્ચ શુદ્ધતાના એલ્યુમિનિયમ એલોય સ્પટરિંગ લક્ષ્યની લાક્ષણિકતાઓ બતાવશે.

મેગ્નેટ્રોન સ્પુટરિંગ લક્ષ્યની સ્પુટરિંગ કાર્યક્ષમતામાં વધુ સુધારો કરવા અને જમા ફિલ્મોની ગુણવત્તા સુનિશ્ચિત કરવા માટે, મોટી સંખ્યામાં પ્રયોગો દર્શાવે છે કે અતિ-ઉચ્ચ શુદ્ધતા એલ્યુમિનિયમ એલોય સ્પટરિંગ લક્ષ્યની રચના, માઇક્રોસ્ટ્રક્ચર અને અનાજની દિશા માટે ચોક્કસ જરૂરિયાતો છે.

લક્ષ્યના અનાજના કદ અને અનાજની દિશા IC ફિલ્મોની તૈયારી અને ગુણધર્મો પર ઘણો પ્રભાવ પાડે છે.પરિણામો દર્શાવે છે કે ધાન્યના કદમાં વધારો સાથે જુબાની દર ઘટે છે;સમાન રચના સાથે સ્પુટરિંગ લક્ષ્ય માટે, નાના અનાજના કદવાળા લક્ષ્યનો સ્પુટરિંગ દર મોટા અનાજના કદવાળા લક્ષ્ય કરતા વધુ ઝડપી છે;લક્ષ્યનું અનાજનું કદ જેટલું એકસમાન હશે, જમા ફિલ્મોની જાડાઈનું વિતરણ વધુ સમાન હશે.

સમાન સ્પુટરિંગ ઇન્સ્ટ્રુમેન્ટ અને પ્રોસેસ પેરામીટર્સ હેઠળ, અલ ક્યુ એલોય લક્ષ્યનો સ્પુટરિંગ રેટ અણુ ઘનતાના વધારા સાથે વધે છે, પરંતુ તે સામાન્ય રીતે શ્રેણીમાં સ્થિર છે.સ્પુટરિંગ રેટ પર અનાજના કદની અસર અનાજના કદમાં ફેરફાર સાથે અણુ ઘનતામાં ફેરફારને કારણે છે;ડિપોઝિશન રેટ મુખ્યત્વે અલ ક્યુ એલોય લક્ષ્યના અનાજના અભિગમ દ્વારા પ્રભાવિત થાય છે.(200) ક્રિસ્ટલ પ્લેન્સના પ્રમાણને સુનિશ્ચિત કરવાના આધારે, (111), (220) અને (311) ક્રિસ્ટલ પ્લેન્સના પ્રમાણમાં વધારો ડિપોઝિશન રેટમાં વધારો કરશે.

અલ્ટ્રા-હાઇ શુદ્ધતા એલ્યુમિનિયમ એલોય લક્ષ્યોનું અનાજનું કદ અને અનાજનું ઓરિએન્ટેશન મુખ્યત્વે ઇન્ગોટ હોમોજનાઇઝેશન, હોટ વર્કિંગ અને રિક્રિસ્ટલાઇઝેશન એનિલિંગ દ્વારા ગોઠવવામાં આવે છે અને નિયંત્રિત થાય છે.20.32cm (8in) અને 30.48cm (12in) સુધી વેફરના કદના વિકાસ સાથે, લક્ષ્યનું કદ પણ વધી રહ્યું છે, જે અતિ-ઉચ્ચ શુદ્ધતા એલ્યુમિનિયમ એલોય સ્પટરિંગ લક્ષ્યો માટે ઉચ્ચ આવશ્યકતાઓને આગળ ધપાવે છે.ફિલ્મની ગુણવત્તા અને ઉપજને સુનિશ્ચિત કરવા માટે, લક્ષ્ય માઇક્રોસ્ટ્રક્ચરને સમાન બનાવવા માટે લક્ષ્ય પ્રક્રિયા પરિમાણોને સખત રીતે નિયંત્રિત કરવું આવશ્યક છે અને અનાજની દિશા મજબૂત (200) અને (220) પ્લેન ટેક્સચર હોવી આવશ્યક છે.