સ્પુટરિંગ લક્ષ્ય સામગ્રીના મુખ્ય ગુણધર્મો

આપણે હવે લક્ષ્યથી ખૂબ જ પરિચિત હોવા જોઈએ, હવે લક્ષ્ય બજાર પણ વધી રહ્યું છે, RSM ના સંપાદક દ્વારા શેર કરાયેલ સ્પુટરિંગ લક્ષ્યનું મુખ્ય પ્રદર્શન નીચે મુજબ છે.

　　શુદ્ધતા

લક્ષ્ય સામગ્રીની શુદ્ધતા એ મુખ્ય પ્રદર્શન સૂચકાંકોમાંનું એક છે, કારણ કે લક્ષ્ય સામગ્રીની શુદ્ધતા પાતળી ફિલ્મના પ્રદર્શન પર મોટો પ્રભાવ ધરાવે છે.જો કે, વ્યવહારિક એપ્લિકેશનમાં, લક્ષ્ય સામગ્રીની શુદ્ધતા જરૂરિયાતો સમાન નથી.ઉદાહરણ તરીકે, માઇક્રોઇલેક્ટ્રોનિક્સ ઉદ્યોગના ઝડપી વિકાસ સાથે, સિલિકોન ચિપનું કદ 6 “, 8 “થી 12″ સુધી વિકસાવવામાં આવ્યું છે, અને વાયરિંગની પહોળાઈ 0.5um થી 0.25um, 0.18um અથવા તો 0.13um સુધી ઘટાડી દેવામાં આવી છે.અગાઉ, 99.995% લક્ષ્ય સામગ્રીની શુદ્ધતા 0.35umIC ની પ્રક્રિયા જરૂરિયાતોને પૂરી કરી શકે છે.0.18um રેખાઓ તૈયાર કરવા માટે લક્ષ્ય સામગ્રીની શુદ્ધતા 99.999% અથવા તો 99.9999% છે.

　　અશુદ્ધિ સામગ્રી

ટાર્ગેટ સોલિડમાં રહેલી અશુદ્ધિઓ અને છિદ્રોમાં ઓક્સિજન અને પાણીની વરાળ એ ફિલ્મ ડિપોઝિશનના મુખ્ય પ્રદૂષણ સ્ત્રોત છે.વિવિધ હેતુઓ માટે લક્ષ્યાંકિત સામગ્રીમાં વિવિધ અશુદ્ધતા સામગ્રી માટે વિવિધ આવશ્યકતાઓ હોય છે.ઉદાહરણ તરીકે, સેમિકન્ડક્ટર ઉદ્યોગમાં ઉપયોગમાં લેવાતા શુદ્ધ એલ્યુમિનિયમ અને એલ્યુમિનિયમ એલોય લક્ષ્યોમાં આલ્કલી ધાતુઓ અને કિરણોત્સર્ગી તત્વોની સામગ્રી માટે વિશેષ આવશ્યકતાઓ હોય છે.

　　ઘનતા

ટાર્ગેટ સોલિડમાં છિદ્રાળુતા ઘટાડવા અને સ્પુટરિંગ ફિલ્મના પ્રદર્શનને સુધારવા માટે, સામાન્ય રીતે લક્ષ્યની ઉચ્ચ ઘનતા જરૂરી છે.લક્ષ્યની ઘનતા માત્ર સ્પુટરિંગ રેટને જ નહીં પરંતુ ફિલ્મના ઇલેક્ટ્રિકલ અને ઓપ્ટિકલ ગુણધર્મોને પણ અસર કરે છે.ટાર્ગેટ ડેન્સિટી જેટલી ઊંચી હશે, ફિલ્મનું પ્રદર્શન સારું રહેશે.વધુમાં, લક્ષ્યની ઘનતા અને મજબૂતાઈમાં વધારો થવાથી લક્ષ્ય સ્પુટરિંગ પ્રક્રિયામાં થર્મલ સ્ટ્રેસને વધુ સારી રીતે ટકી શકે છે.ઘનતા એ લક્ષ્યના મુખ્ય પ્રદર્શન સૂચકાંકોમાંનું એક છે.

　　અનાજનું કદ અને અનાજનું કદ વિતરણ

લક્ષ્ય સામાન્ય રીતે માઇક્રોમીટરથી મિલીમીટર સુધીના અનાજના કદ સાથે પોલીક્રિસ્ટલાઇન હોય છે.સમાન લક્ષ્‍યાંક માટે, નાના અનાજવાળા લક્ષ્યનો સ્ફટરિંગ દર મોટા અનાજવાળા લક્ષ્ય કરતાં વધુ ઝડપી છે.નાના અનાજના કદના તફાવત (સમાન વિતરણ) સાથે સ્પુટરિંગ લક્ષ્ય દ્વારા જમા કરાયેલી ફિલ્મોની જાડાઈનું વિતરણ વધુ સમાન છે.