મેગ્નેટ્રોન સ્પુટરિંગ લક્ષ્ય સામગ્રી શું છે

મેટલ સ્પુટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ, કોટિંગ એલોય સ્પુટરિંગ કોટિંગ મટિરિયલ, સિરામિક સ્પુટરિંગ કોટિંગ મટિરિયલ, બોરાઈડ સિરામિક સ્પુટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ, કાર્બાઈડ સિરામિક સ્પુટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ, ફ્લોરાઈડ સિરામિક સ્પટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ, નાઈટ્રાઈડ સિરામિક સ્પટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ, ઓક્સાઈડ સિરામિક સ્પટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ, સેલેનાઈડ સિરામિક સ્પટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ. સિલિસાઇડ સિરામિક સ્પટરિંગ લક્ષ્ય સામગ્રી, સલ્ફાઇડ સિરામિક સ્પટરિંગ લક્ષ્ય સામગ્રી, ટેલ્યુરાઇડ સિરામિક સ્પટરિંગ લક્ષ્ય, અન્ય સિરામિક લક્ષ્ય, ક્રોમિયમ-ડોપેડ સિલિકોન ઓક્સાઇડ સિરામિક લક્ષ્ય (CR-SiO), ઇન્ડિયમ ફોસ્ફાઇડ લક્ષ્ય (InP), લીડ આર્સેનાઇડ લક્ષ્ય (PbAs), ઇન્ડિયમ આર્સેનાઇડ લક્ષ્ય લક્ષ્ય (InAs).

ઉચ્ચ શુદ્ધતા અને ઉચ્ચ ઘનતા સ્પટરિંગ લક્ષ્ય સામગ્રી છે:

સ્પટરિંગ લક્ષ્ય સામગ્રી (શુદ્ધતા: 99.9%-99.999%)

1. મેટલ લક્ષ્ય:

નિકલ લક્ષ્ય, ની, ટાઇટેનિયમ લક્ષ્ય, Ti, ઝિંક લક્ષ્ય, Zn, ક્રોમિયમ લક્ષ્ય, Cr, મેગ્નેશિયમ લક્ષ્ય, Mg, નિઓબિયમ લક્ષ્ય, Nb, ટીન લક્ષ્ય, Sn, એલ્યુમિનિયમ લક્ષ્ય, Al, ઇન્ડિયમ લક્ષ્ય, ઇન, આયર્ન લક્ષ્ય, Fe, ઝિર્કોનિયમ એલ્યુમિનિયમ લક્ષ્ય, ZrAl, ટાઇટેનિયમ એલ્યુમિનિયમ લક્ષ્ય, TiAl, ઝિર્કોનિયમ લક્ષ્ય, Zr, એલ્યુમિનિયમ-સિલિકોન લક્ષ્ય, AlSi, સિલિકોન લક્ષ્ય, Si, કોપર લક્ષ્ય Cu, ટેન્ટેલમ લક્ષ્ય T, A, જર્મનિયમ લક્ષ્ય, Ge, સિલ્વર લક્ષ્ય, Ag, કોબાલ્ટ લક્ષ્ય, Co, સોનાનું લક્ષ્ય, Au, ગેડોલિનિયમ લક્ષ્ય, Gd, લેન્થેનમ લક્ષ્ય, La, yttrium લક્ષ્ય, Y, સેરિયમ લક્ષ્ય, Ce, ટંગસ્ટન લક્ષ્ય, W, સ્ટેનલેસ સ્ટીલ લક્ષ્ય, નિકલ-ક્રોમિયમ લક્ષ્ય, NiCr, હેફનિયમ લક્ષ્ય, Hf molybdenum લક્ષ્ય, Mo, Fe-Ni લક્ષ્ય, FeNi, ટંગસ્ટન લક્ષ્ય, W, વગેરે.

2. સિરામિક લક્ષ્ય સામગ્રી

ITO લક્ષ્ય લક્ષ્ય, ફેરિક ઓક્સાઇડ, મેગ્નેશિયમ ઓક્સાઇડ લક્ષ્ય, લક્ષ્ય, લક્ષ્ય, સિલિકોન કાર્બાઇડ સિલિકોન નાઇટ્રાઇડ ટાઇટેનિયમ નાઇટ્રાઇડ લક્ષ્ય લક્ષ્ય લક્ષ્ય, લક્ષ્ય, ઝીંક સલ્ફાઇડ, ઝિંક ઓક્સાઇડ, ક્રોમિયમ ઓક્સાઇડ, સિલિકોન ડાયોક્સાઇડ, લક્ષ્ય, લક્ષ્ય, એક સિલિકોન ઓક્સાઇડ, સેરિયમ ઓક્સાઇડ લક્ષ્ય target, five zirconium dioxide oxygen HuaEr niobium target target, target, titanium dioxide, zirconium dioxide, hafnium target, target, titanium diboride diboride zirconium target, tungsten trioxide target, Aluminum trioxide target tantalum pentaoxide, niobium pentaoxide target, magnesium fluoride target, yttrium fluoride લક્ષ્ય, ઝીંક સેલેનાઇડ લક્ષ્ય, એલ્યુમિનિયમ નાઇટ્રાઇડ લક્ષ્ય, સિલિકોન નાઇટ્રાઇડ લક્ષ્ય, બોરોન નાઇટ્રાઇડ લક્ષ્ય, ટાઇટેનિયમ નાઇટ્રાઇડ લક્ષ્ય, સિલિકોન કાર્બાઇડ લક્ષ્ય, લિથિયમ નિયોબેટ લક્ષ્ય, પ્રાસેઓડીમિયમ ટાઇટેનેટ લક્ષ્ય, બેરિયમ ટાઇટેનેટ લક્ષ્ય, લેન્થેનમ ટાઇટેનેટ લક્ષ્ય, નિકલ સ્પ્યુટરિંગ લક્ષ્ય, વગેરે .